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应该储存在密封的塑料瓶里。

在水中溶解hf(---氢)。用来雕刻玻璃，清远---厂家，清洗铸件上的残砂，控制发酵，电抛光，清洗腐蚀半导体硅片(与hno3混酸)。由于氢原子与氟原子之间的结合能力较强，使---无法在水中完全电离。

---可以溶解许多其他酸不能溶解的玻璃(主要成分:二氧化硅)。产生气体的反应方程如下:

sio2(s)+4hf(aq)=sif4(g)↑+2h2o(l)

产生的sif4可以继续和过量的hf产生---:

sif4(g)+2hf(aq)=h2[sif6](aq)，---是二元强酸。

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正因为如此，它必须储存在塑料(理论上，放在聚四氟乙烯制成的容器中)、蜡或---成的容器中。---没有还原性。如果你想长期储存，你不仅需要一个密封容器，还需要尽可能排出容器中的空气。

(可以腐蚀玻璃)与硅和硅化合物反应产生气态，但不会腐蚀塑料，石蜡，铅，金，铂。可以和水和---混合使用。市场上销售的---溶质分数为40%，相当于22.5毫升/升。---的35.35%是共沸混合物。毒性致死量为25毫克/公斤。具有腐蚀性，---腐蚀金属、玻璃和含硅物体。例如，吸入蒸汽或接触皮肤会导致更难愈合的---。

工业用氟加热至500℃进行热分解，或用萤石(---钙caf2)和加热至700℃制备---。

---法将干燥的萤石粉与---按比例1:(1.2~1.3)混合，送入旋转反应炉进行反应，炉内气相温度控制在280℃±10℃。反应性气体进入粗馏塔，除去大部分---、水分和萤石粉，工业---厂家，塔的温度控制在100~110℃，塔的顶部温度控制在35~40℃。粗---氢气体通过脱气塔凝结成液体，塔的温度控制在20~23℃，塔的顶部温度控制在-8℃±1℃，然后进入精馏塔进行精馏，塔的顶部温度控制在30~40℃，塔的顶部温度控制在19.6℃±0.5℃。